Invensi ini menyediakan suatu metode pembentukan permukaan implan gigi dengan mikro-topografi ganda, yang mencakup langkahlangkah penyemprotan suatu badan implan dengan suatu senyawa alumina berukuran 250-300 mikron pada permukaan badan implan tersebut untuk menghasilkan suatu topografi skala mikro pertama yang melapisi badan implan tersebut sehingga terbentuk suatu implan bertopografi skala mikro pertama, perendaman implan bertopografi skala mikro pertama tersebut dalam suatu larutan asam fluorida 48% pada suhu ruang selama 30-60 detik sehingga menghasilkan suatu implan rendaman, dan perendaman implan rendaman tersebut dalam suatu campuran larutan asam klorida 37% dan asam sulfat 97% dengan perbandingan 2:1 selama 5-6 menit pada suhu 80o- 100oC, sehingga menghasilkan suatu topografi skala mikro kedua yang melapisi topografi skala mikro pertama tersebut sehingga terbentuk suatu implan topografi ganda. Dengan metode yang dilakukan oleh invensi ini maka didapatkan suatu permukaan implan gigi berbahan titanium alloy dengan morfologi permukaan implan gigi yang dapat memaksimalkan osseointegrasi.